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          行業資訊

          硬鉻電鍍工藝操作條件

          文字:[大][中][小] 手機頁面二維碼 2016/6/28     瀏覽次數:    


            操作條件

          鍍液組成及工藝條件
          標準開缸
          適用范圍
          鉻酐
          240克/升
          225-275克/升
          純硫酸
          2.7克/升
          2.5-4.0克/升
          RC-25K開缸劑
          20毫升/升
          10-30毫升/升
          陰極電流密度
          60安培/平方分米
          30-75安培/平方分米
          陽極電流密度
          30安培/平方分米
          15-35安培/平方分米
          工作溫度
          58℃
          50-60℃

            設備要求

            鍍槽:硬聚氯乙烯板或鋼槽內襯軟聚氯乙烯均可,槽邊應有抽風設備;

            整流器:要有足夠的容量與鍍槽配套,波紋系數小于5%,電壓不小于15V;

            陽極:使用的陽極為鉛錫合金(錫:7%)或鉛銻合金,輔助及象形陽極亦應采用鉛錫或鉛銻合金;

            加熱器:選用鈦、鉛或聚四氯乙烯材料;

            冷卻管:選用鈦或鉛材料;

            過濾泵:過濾泵的材料宜采用不銹鋼或適當的耐鉻酸塑料。


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